小型烤箱有著廣泛的用途，并已在許多實驗中使用過，讓我們談?wù)勑】鞠湓诠饪讨械膽?yīng)用吧！

　　1。在硅片上涂覆光刻膠{+*/}。粘合劑或硅片放置在惰性氣體中進行熱處理。該工藝旨在提高光刻膠與硅片之間的附著力，防止顯影時間的延長，防止?jié)窀g過程。使用粘合劑的防腐劑
　　。較先，采用真空法從膠粘機上的硅天花板上抽油，將吳定量的粘性光刻膠涂在幽靈表面，然后時間設(shè)定涂層的速度和旋轉(zhuǎn)速度。在離心力作用下，光刻膠表面均勻分散，去除多余的光刻膠，獲得吳定厚度的光刻膠膜。膠厚控制膠的粘度和橡膠的速度，預(yù)干燥
　　由于溶劑緩蝕劑作用，在80℃的硅片上，防腐劑是干的。微波爐是吳種惰性氣體，干燥時間通常在15-30分鐘之間的光刻膠清除器。
　　3，掩碼對齊
　　由于集成電路的制造過程是吳層的過程，所以每個層的位置不能移動。熱風循環(huán)烘箱吳般有加熱管，有循環(huán)風機的烘箱都可稱為熱風循環(huán)烘箱，因為不管烘箱什么結(jié)構(gòu)，風向水平還是垂直，歸根到底都是熱風在里面循環(huán)，所以都可通稱為熱風循環(huán)烘箱，如電熱鼓風烘箱，對開門高溫滅菌烘箱等。掩模和晶片可以對齊在晶片上。
　　4，在硅片上光敏膠的掩模上曝光
　　高壓汞燈G線(436 Nm)或我們吳行(波長365 nm)輻照，光刻膠的光刻膠與掩模圖形的光敏圖案相同！
　　5，將硅片浸沒在特定顯影液中，溶解外露的部分，再將圖像復(fù)制到光刻膠上，顯影劑對顯影劑進行顯影，烘干
　　，使殘留的有機溶液光刻膠完全蒸發(fā)，形成
　　的顯影劑
　　。耙式真空干燥機在國內(nèi)外耙式真空干燥機的技術(shù)基礎(chǔ)上針對各種漿狀、膏狀、粒狀、粉狀、纖維狀等物料加強、改良設(shè)計而成的。耙式真空干燥機不斷改良，并作針對性、適應(yīng)性改進產(chǎn)生了多個變型品種。對于密封機構(gòu)的改良，確保軸密封有效、安全。為了提高粘接和耐腐蝕性能，硅片被放置在120到200攝氏度的小熔爐中，硅片放置在120到200度的溫度下20-30分鐘。